TecScan頂空分析儀 殘氧儀 光化學(xué)方法殘氧儀是奧地利兩位科學(xué)家發(fā)明的非接觸式頂空分析儀，無(wú)損殘氧儀，專門(mén)應(yīng)用在氣調(diào)包裝和制藥殘氧檢測(cè)行業(yè)，TecScan頂空分析儀 殘氧儀 光化學(xué)方法殘氧儀是MAP食品包裝廠和如大輸液，安剖瓶，抗生素，麻醉劑等藥品行業(yè)的殘氧檢測(cè)應(yīng)用。

·       光化學(xué)方法的頂空分析儀不僅可以測(cè)量氣體中的氧氣含量，還以測(cè)量液體中的氧氣含量。

·       傳感器通過(guò)光電化學(xué)點(diǎn)的透明包裝

·       光電化學(xué)點(diǎn)可作為粘合劑或打印點(diǎn)

·       無(wú)需氣體抽出– 對(duì)于小氣量和液體非常適合

·       光電化學(xué)點(diǎn)工廠校準(zhǔn)

·       自檢程序

·       測(cè)試時(shí)間 < 3s

TecScan頂空分析儀 殘氧儀 光化學(xué)方法殘氧儀

·       TecScan頂空分析儀殘氧儀 光化學(xué)方法殘氧儀應(yīng)用：

·       制藥與生物技術(shù)
•食品工業(yè)/地圖包裝
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絕緣玻璃工業(yè)

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